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公开了一种生成曲线亚分辨率辅助特征(SRAF)的方法、一种用于对该曲线SRAF进行简单MRC验证的MRC验证方法以及一种包括生成该曲线SRAF的方法的掩模制造方法，该生成该曲线SRAF的方法能够容易地生成满足掩模规则检查(MRC)条件的曲线...
该专利属于三星电子株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过三星电子株式会社授权不得商用。

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