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本发明提供了一种基于光刻胶的金属薄膜沉积方法及相关设备，该方法包括：控制磁控溅射设备输出目标溅射功率，以使等离子体轰击金属靶材，在衬底光刻胶上沉积金属薄膜；在所述衬底光刻胶上沉积所述金属薄膜的过程中，对衬底光刻胶进行冷却降温，以控制所述衬底...
该专利属于赛莱克斯微系统科技（北京）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过赛莱克斯微系统科技（北京）有限公司授权不得商用。

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