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RETIFEROL衍生物及其治疗皮肤疾病或与光损伤有关的疾病的用途制造技术
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文档序号:3784718
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本发明公开了式(I)的retiferol衍生物:其中X为>C=CH#-[2]或-CH#-[2]-;Y和Z相互独立地为氢,氟或羟基;A为-O(CH#-[2])#-[3]-,-(CH#-[2])#-[2]-(1,2-C#-[6]H#-[4])-...
该专利属于霍夫曼-拉罗奇有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过霍夫曼-拉罗奇有限公司授权不得商用。
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