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本发明公开了一种锰稳定氧化铪薄膜的制备方法，制备过程为：以ＨｆＯ↓［２］和ＭｎＯ↓［２］为原料，按Ｈｆ↓［０．８］Ｍｎ↓［０．２］Ｏ↓［２］中阳离子的摩尔比为４∶１称量、混合、研磨、烧结；再次研磨、压片后重复烧结，并将烧结样品打磨后得到靶材...
该专利属于西北有色金属研究院所有，仅供学习研究参考，未经过西北有色金属研究院授权不得商用。

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