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本实用新型涉及一种晶片清洗装置，属于晶片清洗技术领域，包括支撑架、酸洗槽、冲洗槽、花篮，所述酸洗槽、冲洗槽均设有用于安装晶片的花篮，所述酸洗槽设有用于抛动晶片的第一抛动机构、第一驱动机构，所述冲洗槽内设有用于抛动晶片的第二抛动机构、第二驱动...
该专利属于大正华嘉科技（香河）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过大正华嘉科技（香河）有限公司授权不得商用。

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