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本发明提供了一种非对称图形的图案化方法，包括以下步骤：在待蚀刻材料层表面形成第一掩膜层，通过第一掩膜层定义预设对称图案；将对称图案转移至待蚀刻材料层内，形成第一图案结构；在第一图案结构表面形成第二掩膜层，通过第二掩膜层定义预设非对称图案；将...
该专利属于北京超弦存储器研究院所有，仅供学习研究参考，未经过北京超弦存储器研究院授权不得商用。

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