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本申请涉及半导体领域，更具体地说，它涉及一种厚引线框架的制造方法。一种厚引线框架的制造方法，包括：提供金属卷带；贴附第一感光干膜、第二感光干膜；图案化形成第一干膜图案层与第二干膜图案层；第一干膜图案层的相邻第一引脚补偿扩大图案/第二干膜图案...
该专利属于崇辉半导体（江门）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过崇辉半导体（江门）有限公司授权不得商用。

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