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本实用新型公开了一种用于压电薄膜原位极化工艺的双栅极极化设备，属于压电材料极化技术领域。该极化设备包括支撑结构、金属旋转基板、待极化件、上源极、上栅极、下源极、下栅极。本实用新型在待极化件的上下两侧设置双栅极结构，能够产生更大的极化电场，使...
该专利属于电子科技大学所有，仅供学习研究参考，未经过电子科技大学授权不得商用。

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