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本发明提供了一种减小栅极高度损失的方法，在栅极上形成第一截止层与第二截止层，所述第二截止层作为第一次平坦化的停止层，所述第一截止层作为第二次平坦化的停止层，能够避免两次平坦化直接接触栅极，从而减少了栅极高度的损失；并且在制作栅极时栅极的高度...
该专利属于上海集成电路研发中心有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海集成电路研发中心有限公司授权不得商用。

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