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一种半导体器件,包含基底、隔离区、第一电阻区块、第二电阻区块、第一连接结构、第一井区及第二井区。基底包含具有第一导电类型的区域,隔离区设置于第一井区及第二井区上,第一电阻区块及第二电阻区块设置于隔离区上且电性连接,第一井区及第二井区设置于基...该专利属于世界先进积体电路股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过世界先进积体电路股份有限公司授权不得商用。
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一种半导体器件,包含基底、隔离区、第一电阻区块、第二电阻区块、第一连接结构、第一井区及第二井区。基底包含具有第一导电类型的区域,隔离区设置于第一井区及第二井区上,第一电阻区块及第二电阻区块设置于隔离区上且电性连接,第一井区及第二井区设置于基...