温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本申请实施例提供了一种存储单元、存储器及其制造方法、电子设备。在本申请实施例提供的存储单元中，第一半导体结构相对于源极和漏极缩进，使得源极、第一半导体结构和漏极围合形成侧向凹槽，使得栅极的尺寸与侧向凹槽的尺寸相适配，从而能够精准控制栅极沿第...
该专利属于北京超弦存储器研究院所有，仅供学习研究参考，未经过北京超弦存储器研究院授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。