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本实用新型公开一种晶圆的定位模具及包括该定位模具的纳米压印设备，定位模具上设有晶圆定位缺口和至少一个视窗缺口，晶圆定位缺口的槽内壁轮廓与晶圆的外侧壁轮廓部分相匹配，视窗缺口分布于晶圆定位缺口的外侧，且与晶圆定位缺口连通。本实用新型能够有效解...
该专利属于苏州光越微纳科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过苏州光越微纳科技有限公司授权不得商用。

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