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本发明属于半导体领域，具体涉及一种氮化镓材料的激光剥离方法、设备及介质。其中方法包括：在沉积形成的氮化镓异质结构材料的表面沉积金属层形成氮化镓复合体；响应于所述金属层沉积完成，通过激光剥离所述氮化镓复合体上的衬底，并通过预定方式洗去所述氮化...
该专利属于苏州浪潮智能科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过苏州浪潮智能科技有限公司授权不得商用。

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