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本申请涉及带有止动间隙真空密封件的反应室。一些装置和系统，其包括：反应室的一个或更多个壁；在所述一个或更多个壁中的可调节间隙，其中，在第一间隙表面与面对第一间隙表面的第二间隙表面之间形成可调节间隙，其中，第一间隙表面与第二间隙表面之间的距离...
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