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存储单元阵列结构和制备方法技术
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文档序号:37763716
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本公开提供了一种存储单元阵列结构和制备方法,该存储单元阵列结构包括绝缘衬底、形成于所述绝缘衬底表面上的三维存储单元阵列,所述三维存储单元阵列包括多层存储单元,以及位于每一层的多个存储单元、多个位线和多个字线;其中,每个存储单元包括晶体管和电...
该专利属于北京超弦存储器研究院所有,仅供学习研究参考,未经过北京超弦存储器研究院授权不得商用。
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