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一种利用飞秒激光刻蚀源极的垂直沟道有机光敏场效应管制造技术
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下载一种利用飞秒激光刻蚀源极的垂直沟道有机光敏场效应管的技术资料
文档序号:37763591
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本发明公开一种利用飞秒激光刻蚀源极的垂直沟道有机光敏场效应管,其结构为:栅极/栅极电介质/飞秒激光刻蚀源极/有机功能层/漏极。该器件采用硅/二氧化硅衬底作为栅极/栅极电介质;源极采用飞秒激光刻蚀法进行图案化刻蚀,形成长方形孔状阵列;有机功能...
该专利属于中国计量大学所有,仅供学习研究参考,未经过中国计量大学授权不得商用。
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