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本实用新型提供一种半导体晶圆清洗清洗槽液位恒定装置，所述装置包括：下压头，上浮头，上封头，下封头，容器外壳组成。下压头侧面有导流槽，便于新药液通过；下压头底部连接口，用以和下封头连接杆对接，下压头顶部连接口，用以和上浮头底部连接口对接；上浮...
该专利属于昆山中辰矽晶有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过昆山中辰矽晶有限公司授权不得商用。

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