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本发明提供将作为膜厚的测量对象的基板的形状维持为恒定的成膜装置、膜厚测量方法以及电子器件的制造方法。成膜装置对基板进行成膜。测量部件测量形成于基板的膜的厚度。静电卡盘利用静电力吸附基于测量部件测量的测量对象的基板。移动部件使静电卡盘移动，以...
该专利属于佳能特机株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过佳能特机株式会社授权不得商用。

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