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本发明公开了一种柔性凹角疏水微结构阵列的复型转移制备方法，属于微纳制造领域。该方法在加工得到凹角微结构阵列的硅模板基础上，浇注PDMS混合液，而后采用“软刀硬模”的刮平方式刮去表面多余的PDMS，同时将改性后的PET转移层与硅片模板相贴后高...
该专利属于西北工业大学所有，仅供学习研究参考，未经过西北工业大学授权不得商用。

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