温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明提供一种利用具有多平台的光刻机台进行晶片光刻工艺的方法。首先，提供光刻机台，光刻机台包含有第一晶片承座与第二晶片承座。之后，提供晶舟至光刻机台，晶舟内包含有多个晶片，各晶片皆具有晶片编号。接着，设定第一晶片承座去承载晶片编号为奇数的晶...
该专利属于联华电子股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过联华电子股份有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。