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本申请实施例提供一种提高离子注入层均匀性的方法，通过调整离子注入设备的离子束与晶圆的夹角，来避免离子束与晶圆的晶格原子之间的间隙平行，从而可避免离子注入时产生沟道现象，确保了被注入的离子能够到达晶圆中的深度均匀，提高了晶圆离子注入层的均匀性...
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