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本发明涉及半导体湿制程工艺领域，具体地说是一种半导体湿制程工艺设备用气体过滤装置，包括壳体、进风动力源、整流板及滤芯。外界环境气体通过进风动力源被输入至壳体内腔的整流前空间，整流前空间中的气体穿过整流板的整流孔进入至壳体内腔的整流后空间中，...
该专利属于沈阳芯源微电子设备股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过沈阳芯源微电子设备股份有限公司授权不得商用。

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