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本发明公开了一种Micro OLED阳极制备方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤1)在基板上制作Ag前道膜层；步骤2)制作PDL层，所述PDL层凸出一定高度；步骤3)整面附Ag膜层；步骤4)对PDL层的凸起部进行研磨，去除凸起PDL层上的A...
该专利属于安徽芯视佳半导体显示科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过安徽芯视佳半导体显示科技有限公司授权不得商用。

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