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聚合物、组合物、聚合物的制造方法、组合物、膜形成用组合物、抗蚀剂组合物、辐射敏感组合物、光刻用下层膜形成用组合物、抗蚀图案形成方法、光刻用下层膜的制造方法、电路图案形成方法、及光学构件形成用组合物技术
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文档序号:37702316
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一种聚合物,其具有源自选自由式(1A)及(1B)所示的芳香族羟基化合物组成的组中的至少1种单体的重复单元,前述重复单元彼此通过芳香环彼此的直接键合来连接。(式(1A)及(1B)中,R各自独立地为任选具有取代基的碳数1~40的烷基、任选具有取...
该专利属于三菱瓦斯化学株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过三菱瓦斯化学株式会社授权不得商用。
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