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本发明提供一种硅各向异性蚀刻液组合物，含有（ａ）作为有机碱化合物和无机碱化合物的混合物的碱化合物；以及（ｂ）含硅化合物。作为有机碱化合物，使用氢氧化季铵盐或乙二胺中的１种以上。此外，作为无机碱化合物，使用氢氧化钠、氢氧化钾、氨或肼中的１种以...该专利属于林纯药工业株式会社;三洋电机株式会社;三洋半导体株式会社;三洋半导体制造株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过林纯药工业株式会社;三洋电机株式会社;三洋半导体株式会社;三洋半导体制造株式会社授权不得商用。