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本发明提供了一种离子束刻蚀腔内栅网的沾污的清洗方法，使用离子束刻蚀的工艺菜单进行清洗，设置施加在第一层栅网的正电压、正电流和施加在第二层栅网上的负电压，使等离子体通过第一层栅网，且不形成具有方向性离子束，利用等离子体之间的排斥碰撞作用，对栅...
该专利属于江苏鲁汶仪器股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过江苏鲁汶仪器股份有限公司授权不得商用。

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