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一种半导体结构的形成方法，包括：提供衬底，所述衬底包括基底以及位于所述基底上的待刻蚀层；在所述衬底上形成初始冰刻胶；采用电子束刻蚀工艺对所述初始冰刻胶进行图形化处理，形成冰刻胶和位于所述冰刻胶内的若干图形化开口，所述图形化开口暴露出所述衬底...
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