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一种半导体结构的形成方法，包括：提供衬底，所述衬底包括有源区和隔离区；在衬底上形成浮栅极结构材料层；去除隔离区上的浮栅极结构材料层，在有源区上形成浮栅极结构，并在相邻浮栅极结构之间形成第一凹槽，所述第一凹槽暴露出隔离区表面；形成第二凹槽和侧...
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