专利查询
首页
专利评估
登录
注册
当前位置:
首页
>
专利查询
>
联华电子股份有限公司
>
半导体结构及其制作方法技术
>技术资料下载
下载半导体结构及其制作方法的技术资料
文档序号:37671844
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本发明提供一种半导体结构,包含一磁性隧穿结(magnetic tunneling junction,MTJ),堆叠结构设于一基底上,一自旋轨道转矩式(spin orbit torque,SOT)层设于该MTJ堆叠结构上,其中该SOT层包含有...
该专利属于联华电子股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过联华电子股份有限公司授权不得商用。
详细技术文档下载地址
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。