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本发明公开了一种多功能高效率半导体真空镀膜与检测设备包括依次通过真空管路连接的第一真空仓、第二真空仓和第三真空仓；所述第一真空仓顶部形成的移动窗口内移动安装有连接杆，所述连接杆端部安装有样品台，所述第一真空仓还具有：密封组件，所述连接杆在所...
该专利属于英纳科（苏州）半导体科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过英纳科（苏州）半导体科技有限公司授权不得商用。

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