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一种靶材高利用率真空磁控溅射镀膜设备，在用于固定靶材的铜背板下部设置了活动磁铁组件；在溅射镀膜过程中，磁铁组件往复移动，使靶材的溅射区域不断发生改变，解决了以往靶材溅射固定在某个区域的弊端，使靶材溅射区域增加，从而提高了高价值靶材的利用率，...
该专利属于洛阳汇晶新材料科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过洛阳汇晶新材料科技有限公司授权不得商用。

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