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一种曝光装置，其包括将掩模的图像投影至载台支承的衬底Ｗ上的投影光学系统，以及在投影光学系统和载台间形成特定气体气氛的气氛形成机构７０、７１，其中气氛形成机构７０、７１具有缓冲部件７１ａ、７１ｂ，其削弱由载台或衬底Ｗ与气氛形成机构接触所产生的...
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