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本发明提供一种工艺系统。气体分析装置(1)具有：样品腔室(11)，其具备介电性的壁体构造(12)，仅流入作为测定对象的样品气体(9)；等离子体生成机构(13)，其借由介电性的壁体构造来通过电场和/或磁场在被减压后的样品腔室内生成等离子体(1...
该专利属于ATONARP株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过ATONARP株式会社授权不得商用。

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