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隔离结构、具有隔离结构的非挥发性记忆体及其制造方法技术
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文档序号:3765651
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本发明是有关于一种隔离结构、具有隔离结构的非挥发性记忆体及其制造方法。该形成一隔离结构的方法,包含:a)提供具有一凹陷的一基底;b)形成一停止层于该凹陷中及该基底上;c)形成一介电材料于该停止层上,使得其余的该凹陷中填满该介电材料;d)利用...
该专利属于旺宏电子股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过旺宏电子股份有限公司授权不得商用。
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