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本发明公开了测量和监控曝光机台的数值孔径的方法、控片和光掩模。在该测量曝光机台的数值孔径的方法中，首先提供控片及像差光掩模，其中控片上有多个刻度尺标记，像差光掩模上则有多个针孔，其中每一个针孔的位置对应一个刻度尺标记的位置。接着使用曝光机台...
该专利属于钜晶电子股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过钜晶电子股份有限公司授权不得商用。

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