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一种光电突触器件及其制备方法技术
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文档序号:37642855
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本发明公开了一种光电突触器件及其制备方法,方法包括,提供表面沉积有介电层的硅基衬底;在所述介电层的表面沉积钙钛矿量子点溶液,得到钙钛矿量子点层;提供辅助膜;在所述辅助膜的表面设置源极和漏极作为金属电极,所述源极和漏极之间设置有沟道;在所述沟...
该专利属于深圳大学所有,仅供学习研究参考,未经过深圳大学授权不得商用。
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