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液晶光栅的制备方法、液晶光栅的制备设备和存储介质技术
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文档序号:37642011
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本发明公开了一种液晶光栅的制备方法、液晶光栅的制备设备和存储介质,所述方法包括以下步骤:在基底上铺设配向层材料,对铺设有配向层材料的所述基底进行一次曝光;对所述基底上的光栅区进行二次曝光,并将所述一次曝光的区域和所述二次曝光的区域设置为配向...
该专利属于歌尔股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过歌尔股份有限公司授权不得商用。
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