液晶光栅的制备方法、液晶光栅的制备设备和存储介质技术

本发明专利技术公开了一种液晶光栅的制备方法、液晶光栅的制备设备和存储介质，所述方法包括以下步骤：在基底上铺设配向层材料，对铺设有配向层材料的所述基底进行一次曝光；对所述基底上的光栅区进行二次曝光，并将所述一次曝光的区域和所述二次曝光的区域设置为配向层；将液晶混合物涂覆在所述配向层上以得到液晶光栅。通过本发明专利技术可以简化光栅制作的步骤，减小了光栅制作的工作量，提高了光栅制作的效率。提高了光栅制作的效率。提高了光栅制作的效率。

【技术实现步骤摘要】
液晶光栅的制备方法、液晶光栅的制备设备和存储介质


[0001]本专利技术涉及光学
，具体涉及一种液晶光栅的制备方法、液晶光栅的制备设备和存储介质。

技术介绍

[0002]目前，液晶光栅的制作方法可以大致分为两类：干涉法和非干涉法。非干涉法采用接触或非接触曝光的方法制作，如掩膜版曝光、激光直写、数字微镜阵列(Micro
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mirror Device,DMD)动态掩膜、空间光调制器(Spatial Light Modulator,SLM)单步曝光等多种曝光方式。其中，采用掩膜版曝光的光配向方法是最简单的方式。这种方式通过对掩膜版样式的设计，可实现一些简单结构的光学元器件制作，但对于复杂结构的元件，往往需要制作不同的掩膜版并进行多次曝光，增加了生产成本和时间周期。干涉法通过两束不同旋向的圆偏振光以相应的夹角进行干涉并曝光基底，使配向层产生方位角不断变换的取向效果，诱导液晶形成光栅结构。干涉法虽然能够实现高精度元器件制作，但现有技术中干涉法通常采用一次曝光法，而一次曝光法仅曝光光栅区，未曝光的区域在旋涂液晶并固化液晶之后液晶分子会呈现无序排列，从而导致未曝光区域雾度特别大，呈不透明状，通过这种方式做出来的光栅无法直接使用，而是需要使用小刀等工具对未曝光区域进行刮擦，或使用溶剂对未曝光区域进行擦洗以使得未曝光区域达到透明的效果，这样加大了光栅制作的工作量，降低了光栅制作的效率。

技术实现思路

[0003]本专利技术提供了一种液晶光栅的制备方法、液晶光栅的制备设备和存储介质，旨在解决制作液晶光栅工作量过大的技术问题。
[0004]为实现上述目的，本专利技术提供了一种液晶光栅的制备方法，该方法包括以下步骤：
[0005]在基底上铺设配向层材料，对铺设有配向层材料的所述基底进行一次曝光；
[0006]对所述基底上的光栅区进行二次曝光，并将所述一次曝光的区域和所述二次曝光的区域设置为配向层；
[0007]将液晶混合物涂覆在所述配向层上以得到液晶光栅。
[0008]可选地，若所述配向层材料为可擦写配向层材料，则使用线偏振光对铺设有配向层材料的所述基底进行一次曝光。
[0009]可选地，若所述配向层材料为不可擦写配向层材料，则将掩膜版设置在所述基底上；
[0010]使用线偏振光对所述掩膜版以外的铺设有配向层材料的所述基底进行一次曝光。
[0011]可选地，若所述配向层材料为可擦写配向层材料，则采用两束不同旋向的圆偏振光进行干涉并对所述基底上的光栅区进行二次曝光。
[0012]可选地，若所述配向层材料为不可擦写配向层材料，则撤下所述基底上的掩膜版，并采用两束不同旋向的圆偏振光进行干涉对所述基底上的光栅区进行二次曝光。
[0013]可选地，通过旋涂、喷涂、喷墨打印或刮涂的方式将可擦写配向层材料涂覆在基底上。
[0014]可选地，对所述液晶光栅进行固化处理。
[0015]可选地，采用两束不同旋向的圆偏振光以计算得到的夹角进行干涉；
[0016]对所述基底上的光栅区进行二次曝光，得到光栅结构。
[0017]为实现上述目的，本申请还提出一种液晶光栅的制备设备，液晶光栅的制备设备包括存储器、处理器、以及存储在所述存储器上并可在所述处理器上运行的液晶光栅的制备程序，所述液晶光栅的制备程序被处理器执行时实现所述液晶光栅的制备方法。
[0018]为实现上述目的，本申请还提出一种存储介质，所述存储介质上存储有液晶光栅的制备程序，所述液晶光栅的制备程序被处理器执行时实现所述液晶光栅的制备方法。
[0019]本专利技术技术方案中，在基底上铺设配向层材料，对所述基底进行曝光；对所述基底上的光栅区进行二次曝光，并将曝光的区域设置为配向层；将液晶混合物涂覆在所述配向层上以得到液晶光栅。而本领域的现有技术为在基底上涂覆配向层材料之后，直接对光栅区进行一次曝光来制备光栅，因此与现有技术相比，本专利技术多了一次曝光的步骤，通过对配向层材料进行两次曝光，可以使非光栅区的配向层材料获得一个均一的相位，从而诱导液晶分子进行均一排列，形成视觉上的透明效果。因此本专利技术可以避免曝光后使用小刀等工具对未曝光区域进行刮擦，或使用溶剂对未曝光区域进行擦洗以使得未曝光区域达到透明的效果，减小了光栅制作的工作量，提高了光栅制作的效率。
附图说明
[0020]为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。
[0021]图1为本专利技术一实施例的液晶光栅的制备方法的模块结构示意图；
[0022]图2为本专利技术一实施例的液晶光栅的制备方法的流程图；
[0023]图3为本专利技术一实施例的液晶光栅的制备方法的实例图。
具体实施方式
[0024]应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本专利技术，并不用于限定本专利技术。
[0025]请参照图1，图1为本专利技术各个实施例中所提供的液晶光栅的制备设备的硬件结构示意图。所述液晶光栅的制备设备包括执行模块01、存储器02、处理器03、电池系统等部件。本领域技术人员可以理解，图1中所示出的设备还可以包括比图示更多或更少的部件，或者组合某些部件，或者不同的部件布置。其中，所述处理器03分别与所述存储器02和所述执行模块01连接，所述存储器02上存储有液晶光栅的制备程序，所述液晶光栅的制备程序同时被处理器03执行。
[0026]执行模块01，可在基底上铺设配向层材料，并分别应用线偏振光对基底进行曝光，或应用双光束对基底进行曝光，同时反馈以上信息发送给所述处理器03。
[0027]存储器02，可用于存储软件程序以及各种数据。存储器02可主要包括存储程序区
和存储数据区，其中，存储程序区可存储操作系统、至少一个功能所需的应用程序等；存储数据区可存储根据物联网终端的使用所创建的数据或信息等。此外，存储器02可以包括高速随机存取存储器，还可以包括非易失性存储器，例如至少一个磁盘存储器件、闪存器件、或其他易失性固态存储器件。
[0028]处理器03，是处理平台的控制中心，利用各种接口和线路连接整个物联网终端的各个部分，通过运行或执行存储在存储器02内的软件程序和/或模块，以及调用存储在存储器02内的数据，执行物联网终端的各种功能和处理数据，从而对液晶光栅的制备设备进行整体监控。处理器03可包括一个或多个处理单元；优选的，处理器03可集成应用处理器和调制解调处理器，其中，应用处理器主要处理操作系统、用户界面和应用程序等，调制解调处理器主要处理无线通信。可以理解的是，上述调制解调处理器也可以不集成到处理器03中。
[0029]本领域技术人员可以理解，图1中示出的液晶光栅的制备设备结构并不构成对设备的限定，可以包括比图示更多或更少的部件，或者组合某些部件，或者不同的部本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种液晶光栅的制备方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：在基底上铺设配向层材料，对铺设有配向层材料的所述基底进行一次曝光；对所述基底上的光栅区进行二次曝光，并将所述一次曝光的区域和所述二次曝光的区域设置为配向层；将液晶混合物涂覆在所述配向层上以得到液晶光栅。2.如权利要求1所述的液晶光栅的制备方法，其特征在于，所述对铺设有配向层材料的所述基底进行一次曝光的步骤包括：若所述配向层材料为可擦写配向层材料，则使用线偏振光对铺设有配向层材料的所述基底进行一次曝光。3.如权利要求1所述的液晶光栅的制备方法，其特征在于，所述对铺设有配向层材料的所述基底进行一次曝光的步骤还包括：若所述配向层材料为不可擦写配向层材料，则将掩膜版设置在所述基底上；使用线偏振光对所述掩膜版以外的铺设有配向层材料的所述基底进行一次曝光。4.如权利要求1所述的液晶光栅的制备方法，其特征在于，所述对所述基底上的光栅区进行二次曝光的步骤包括：若所述配向层材料为可擦写配向层材料，则采用两束不同旋向的圆偏振光进行干涉并对所述基底上的光栅区进行二次曝光。5.如权利要求1所述的液晶光栅的制备方法，其特征在于，所述对所述基底上的光栅区进行二次曝光的步骤还包括：若所述配向层材料为不可擦写配向层材料，...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨镇源，吾晓，饶轶，
申请(专利权)人：歌尔股份有限公司，
类型：发明
国别省市：