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本发明公开了一种厚膜光刻胶用氨污染抑制添加剂及其制备方法，还提供了一种光刻胶组合物、其制备方法及其应用。该光刻胶组合物的原料包括：无规共聚物、光致生酸剂、光敏聚合物和有机溶剂。所述无规共聚物为由下述通式Ia、Ib和Ic表示的结构单元组成的重...
该专利属于上海芯刻微材料技术有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海芯刻微材料技术有限责任公司授权不得商用。

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