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本发明的课题在于提供一种能够抑制在剥离层表面上的转印痕迹的形成且传送性及剥离层的涂布性优异的剥离膜制造用的聚酯膜。并且，本发明的课题还在于提供一种剥离膜及聚酯膜的制造方法。本发明的聚酯膜为剥离膜制造用聚酯膜，其具备：实质上不含粒子的聚酯基材...
该专利属于富士胶片株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过富士胶片株式会社授权不得商用。

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