温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

公开了光学器件和用于制造光学器件的方法。制造了具有呈图案化网格结构的更高分辨率的特征的光学器件。将光致抗蚀剂施加至光学器件的器件层。在不同的曝光步骤中使用若干相互偏移的光掩模来曝光具有特征的光致抗蚀剂。每次曝光中的特征可以具有不同的特征尺寸...
该专利属于II-VI特拉华有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过II-VI特拉华有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。