温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本实用新型提供半导体晶圆晶粒二流体清洗机，涉及清洗机构技术领域，包括固定支座和箱体，所述固定支座安装于箱体的内部，所述固定支座的表面滑动连接有活动托架，所述活动托架的内部套设有产品摆放架，所述产品摆放架的表面开设有斜槽，所述箱体的顶部固定安...
该专利属于深圳市富嘉达超声波设备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市富嘉达超声波设备有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。