温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

在半导体衬底上的电氧化金属移除期间，对具有金属层的衬底施加阳极偏置，并且金属被电化学溶解于电解液中。金属颗粒(例如，当溶解的金属是铜时为铜颗粒)可能在电化学金属移除期间无意中形成于衬底的表面上，并且在后续的半导体处理期间造成缺陷。可通过防止...
该专利属于朗姆研究公司所有，仅供学习研究参考，未经过朗姆研究公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。