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一种真空腔体室复位升降结构制造技术
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下载一种真空腔体室复位升降结构的技术资料
文档序号:37618203
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本实用新型公开了一种真空腔体室复位升降结构,涉及升降装置技术领域,包括上壳体,所述上壳体的下端设有下壳体,所述上壳体的上壁中间位置贯穿设有设备通道,所述下壳体的内部上表面左右两端均设有线性执行器,所述下壳体的下端与所述线性执行器对应的位置设...
该专利属于沈阳科斯莫科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过沈阳科斯莫科技有限公司授权不得商用。
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