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本实用新型提供了一种晶圆清洗装置，包括：槽体，其内部形成有供晶圆清洗的容置腔；清洗组件，包括位于晶圆两侧的滚刷；支撑组件，其位于所述清洗组件的下方并与晶圆边缘接触，用于支撑并限定晶圆在竖直平面内旋转；其中，所述支撑组件包括主动轮和测速轮，所...
该专利属于华海清科股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过华海清科股份有限公司授权不得商用。

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