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一种基于结构光条纹的自动曝光控制方法技术
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文档序号:37613068
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本发明的一种基于结构光条纹的自动曝光控制方法,包括:S1、采集一组四步相移光栅图,并进行解算;S2、对调制度与背景光进行双重降采样,剔除过饱合的采样值进行排序并作直方图;S3、找到直方图上标记位置的调制度值与背景光强值;S4、根据对应关系,...
该专利属于无锡微视传感科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过无锡微视传感科技有限公司授权不得商用。
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