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本发明公开了一种光致发光薄膜离子注入改性的制备方法，向光致发光薄膜注入非金属离子，后在气氛氛围中进行退火处理；所述非金属离子包括硼、氟、磷、氩以及砷中的至少一种；所述非金属离子的注入剂量为1
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该专利属于中国工程物理研究院电子工程研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国工程物理研究院电子工程研究所授权不得商用。

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