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本发明公开了一种等离子分流盘的洗净剂组合，属于半导体技术领域。所述洗净剂组合包括煮沸洗净剂W1、加压刻蚀洗净剂W2。其中，所述煮沸洗净剂W1为溶有无机碱、无机盐和表面活性剂的有机醇溶液；所述加压刻蚀洗净剂W2为溶有强氧化剂和刻蚀调节剂的含氟...
该专利属于杭州盾源聚芯半导体科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过杭州盾源聚芯半导体科技有限公司授权不得商用。

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