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一种半导体结构及其形成方法，所述形成方法，在支撑层和牺牲层中形成若干电容孔后，在电容孔的侧壁表面形成外电极层；在外电极层侧壁表面形成电介质层；去除外电极层之间剩余的牺牲层，在去除剩余的牺牲层的位置形成空腔；在电介质层的表面以及电容孔的底部表...
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