温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本申请适用于薄膜制造技术领域，提供了一种薄膜膜厚的测量方法、装置、电子设备及存储介质，该方法包括：根据薄膜的理论数据信息和第一模拟数据信息得到薄膜的第一膜厚后，还根据第一膜厚进行以下处理：先根据第一膜厚和待拟合比例值，得到薄膜的第二膜厚，然...
该专利属于深圳市埃芯半导体科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市埃芯半导体科技有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。